日本ULVAC爱发科CME-200E/400半导设备化学气相沉积设备
日本ULVAC爱发科半导设备化学气相沉积设备

产品型号：CME-200E/400
厂商性质：经销商
更新时间：2024-11-25
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日本ULVAC爱发科半导设备化学气相沉积设备

单片PE-CVD设备CME-200E/400

单片式PE-CVD设备CME-200E/400是适合批量生产的PE-CVD设备，适合形成硅基绝缘膜、阻挡膜等。

特征

27.12MHz高密度等离子工艺
SiH ₄型：SiO ₂、SiNx、SiON、a-Si、TEOS 型：可提供 SiO ₂薄膜
可使用NF _{3 +Ar 等离子体清洁腔室}
可配备用于有机EL低温成膜的加热器
通过托盘传送支持最大尺寸为□200mm的电路板（CME-200E）（支持CME-400：300×400）

目的

功率器件
LED、LD、高速器件
有机EL
太阳能电池
微机电系统

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