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日本ULVAC爱发科半导体间歇式真空沉积设备
日本ULVAC爱发科半导体间歇式真空沉积设备
间歇式高真空蒸发设备ei系列是一种在基材上形成金属和氧化物薄膜的设备。排气作业及成膜作业可在操作面板的集中控制下自动进行，适合研究开发及小规模生产。
可配备各种蒸发源（EB、电阻、EB+电阻）
根据工艺（升空、行星、卫星等）的基材支架
兼容Φ2英寸至6英寸基板、矩形基板、硅、化合物、玻璃和陶瓷基板。
液晶触摸屏集中显示和操作
使用 PC 的出色操作性和功能（配方功能、数据记录、维护辅助功能）
功率器件等相关化合物
LED、LD、高速器件
用于各种实验
其他一般电子零件
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