半导体设备XHEMIS TX-3000V理学Rigaku反射荧光X射线光谱仪 半导体设备理学Rigaku反射荧光X射线光谱仪 内置 VPD 的 TXRF 光谱仪 超快速金属污染测绘 VPD 的最高灵敏度 兼容最大 300mm 晶圆

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半导体设备TXRF-V310理学Rigaku反射荧光X射线分析仪 半导体设备理学Rigaku反射荧光X射线分析仪 采用转子式高输出X射线发生器和新设计的入射X射线单色仪。 使用直接TXRF测量方法实现了10 8 原子/cm 2的过渡金属LLD水平。 它可实现相同的精度和高通量，测量时间仅为封闭式 X 射线管的 1/3。

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半导体设备TXRF 3760理学Rigaku反射荧光X射线分析仪 半导体设备理学Rigaku反射荧光X射线分析仪 采用转子式高输出X射线发生器和新设计的入射X射线单色仪。 使用直接TXRF测量方法实现了10 8　原子/cm 2的过渡金属LLD水平。 它可实现相同的精度和高通量，测量时间仅为封闭式 X 射线管的 1/3。